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악취제거시스템

UV광촉매

UV광촉매 탈취 장치

원일 UV + 광촉매 살균 탈취 장치는 고탈취와 고살균에 탁월한 장비로 운영이 간편하고 편리합니다.
UV와 광촉매의 반응으로 공기가 정화되는 장치입니다.

  • 400nm 이하의 UV파장을 가진 자외선 램프와 광촉매(TiO2)를 일체화 시켜 공기정화에 가장 효과적인 정화 작용제(Purify Agent)를 지속적으로 생산합니다.
  • UV의 파장이 광촉매(TiO2)표면에 근접하면 공기 중의 산소(O2)와 물(H2O) 분자가 깨져 광전자와 오존(O3)이 발생됩니다. 또한 UV Light는 병원성 세균의 살균에 매우 효과적입니다.
  • TiO2 표면에 Band gap 이상의 에너지를 가지는 파장 (λ > 380 nm)의 UV를 조사할 경우
    TiO2 표면에 전자(electron)는 Valence band에서 Conduction band로 전이가 일어나게 되고 이로 인하여 Valence band에는 Hole 이 생성된다.
  • 생성된 전자와 hole 은 TiO2 표면으로 확산 이동하게 된다.
    TiO2 표면에 흡착된 물이나 OH-과 hole 이 반응하여 OH 라디칼을 생성하기도 하며 수중에 존재하는 산소의 경우에는 전자와 반응하여 O2- 라디칼을 생성하여 더 많은 OH 라디칼을 생성시켜 TiO2 표면의 유기물질 등을 분해하게 되는데 이를 광촉매 반응이라고 한다.
  • OH 라디칼과 O2-라디칼은 또한 반응의 중간 생성물로 생성되는 H2O2에 의하여도 생성된다.
  • H2O2, O2, HO2 은 생성된 전자를 소비하여 Recombination을 방지하여 OH 라디칼의 생성을 증가시키며 광촉매 반응에서 생성된 OH 라디칼과 O2- 라디칼은 유기물질을 산화시키는 산화
  • 광촉매로 사용되고 있는 반도체 재료로는 TiO2, SiO2, ZnO, WO3 등이 있다.
    이중 TiO2가 가장 각광받는 이유는 활성도가 높고 가격이 저렴하며 인체에 무해한 물질이고,화학적 안정성을 지니고 있기 때문이다.

원리

원일 UV + 광촉매 살균 장치는 자연에서 발생되는 원리를 이용한 획기적인 방식의 신개념 장치 입니다.
원일 UV+광촉매 살균 탈취 장치의 원리는 다음과 같습니다.

  • AOP의 OH라디칼 생성원리를 이해하기 전 먼저 오존의 분해 메카니즘을 설명하는 것이 이해하는데 도움이 될 것입니다.
  • 오존은 공기 중 산소 또는 순산소를 이용하여 가스 상태로 발생시키는데 오존을 수처리에 응용할 경우 액상에 용해시켜 사용한다.
  • 액체 상태에서 잔류오존은 매우 불안정하여 비교적 단시간에 분해되어 (반감기 : 20분 ～ 30분, 온도 20℃기준) 산소(O2)와 발생기산소(O)로 된다.
  • 오존의 분해속도는 pH에 크게 영향을 받는데 이것은 수산화기(OH2-)와 Superoxide 라디칼을 생성하게 된다.
  • 그림1에 나타낸 바와 같이 오존은 수산화기외에 자연수에 함유되어 있는 각종 무기 금속 이온이나 유기물에 의해서도 분해가 시작되며 Cyclic 연쇄반응의 경로를 거쳐 여러 라디칼들을 생성하게 되며 그 중 대표적인 것이 OH 라디칼이다.
  • 이 중간물질로 생성된 라디칼 중 OH 라디칼은 오존 자체보다 높은 전위차를 가지며 (3.08V) 거의 모든 유기물과 매우 빠른 속도로 골고루 반응하는 특징이 있다.
  • 반면에 오존은 대다수의 유기물과의 반응이 느리거나 유기물과는 전혀 반응을 하지 않는 경우가 흔히 있다.
  • 오존산화 시 유기물이 제거될 수 있는 경로는 그림2에서 나타낸 바와 같이 오존분자에 의하여 직접적으로 제거될 수 있는 직접경로(Direct reaction pathway)와 OH 라디칼에 의하여 분해되는 간접경로(Indirect reaction pathway)로 구분된다.

처리공정

발생 악취에 대한 처리 공정은 콤팩트 하고 효율이 높은 자외선을 활용한 공학적 저전력 시스템 입니다.
발생 악취는 전처리 장치를 통하여 효율적으로 단시간 내에 탈취됩니다.

  • AOP의 OH라디칼 생성원리를 이해하기 전 먼저 오존의 분해 메카니즘을 설명하는 것이 이해하는데 도움이 될 것입니다.
  • 오존은 공기 중 산소 또는 순산소를 이용하여 가스 상태로 발생시키는데 오존을 수처리에 응용할 경우 액상에 용해시켜 사용한다.
  • 액체 상태에서 잔류오존은 매우 불안정하여 비교적 단시간에 분해되어 (반감기 : 20분 ～ 30분, 온도 20℃기준) 산소(O2)와 발생기산소(O)로 된다.
  • 오존의 분해속도는 pH에 크게 영향을 받는데 이것은 수산화기(OH2-)와 Superoxide 라디칼을 생성하게 된다.
  • 그림1에 나타낸 바와 같이 오존은 수산화기외에 자연수에 함유되어 있는 각종 무기 금속 이온이나 유기물에 의해서도 분해가 시작되며 Cyclic 연쇄반응의 경로를 거쳐 여러 라디칼들을 생성하게 되며 그 중 대표적인 것이 OH 라디칼이다.
DEMISTER or
LAMINATOR		 발생되는 악취에 유분이 포함 될 경우 초기 단계에 이를 상당부분 제거하여 탈취장치 전체의 부하를 경감하고, 필터의 교환주기를 늦추어 경제성을 유지한다.
무정전 FILTER Dust, Fume, Smoke, 정화조 등의 미립자까지 집진하고 박테리아, 곰팡이, 세균 등을 제거할 수 있는 재생 가능한 필터로서 집진효율은 2.5m/sec에서 ASHRAE STD 52-76 기준 대기진 중량법 90%이상의 효율과 30mmAq 이하의 압력손실을 만족시켜야 한다.
UVC
PhotoOxidation
MODULE		 오존과 자외선을 동시에 발생시키는 오존튜브를 이용한다.
1차로 오존에 의한 살균, 산화처리와 함께 발생된 오존에 자외선을 조사함으로써 OH-의 발생을 증폭시켜 강력한 산화력에 의해 2차로 탈취작용을 수행함.
분해에 따른 수산화기의 발생 인체에 해롭지 않으면서도 산화 처리가 복합적으로 수행되는방식이며 공기처리에 광범위하게 적용되고 있는 신기술임.
CARBON
FILTER		 입상활성탄(/AC)을 이용하여 전처리에서 제거되고 잔류할 수 있는 일부 오염 물질을 최종적으로 흡착, 여과하여 배출하는 탈취의 최종단계임.
현장에 적용된 입상활성탄에 유기성 흡착량이(탄화수소, 알데히드, 페놀류, 울레핀등) 흡착속도와 탈착속도가 다소 느리나, 세공 용적이 넓어 많은 양의 1,000℃까지의 고온에서도 견디며, 가공성이 뛰어나 기상 흡착용으로 적용한다.
단 현장의 오염정도를 감안하여 FAC 로 변경 적용할 수 있다.

장점

원일의 기술은 깨끗한 공기로 쾌적한 삶의 공간을 디자인하여 여러분께 보다 나은 미래를 약속합니다.
각종 오염 물질과 악취에서 벗어난 쾌적한 공간을 선물합니다.

  • 분진과 유분, 각종 위해요소(산성 염기성 악취원 / 암모니아, 메탄, 유화수소, 메르캅탄류 등)를 완벽하게 산화, 흡착 처리하여 인체에 무해한 물, 이산화탄소, 알데히드(-CHO)로 전환합니다.
  • 분진과 위해요소를 대부분 제거하므로 효율이 안정되고, 후처리 장치의 유지관리를 위한 비용이 급격히 감소합니다.
  • 水막 및 가스상태(오존, 수산화기)로 오염물과 접촉하므로 짧은 반응 시간에 높은 효율을 발휘하고, 공기의 살균 효과 및 공기 청정기능까지 발휘합니다.
  • 재질이 STS304로 반영구적으로 사용이 가능하며 유지 보수가 용이합니다.